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          游客发表

          羲之,卻難量產中國曝光機精度逼近

          发帖时间:2025-08-30 13:28:26

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          浙江大學余杭量子研究院研發的【代妈25万一30万】 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」 ,接近 ASML High-NA EUV 標準 。

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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破  ,導致成本偏高 、

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